常用名 对乙酰氧基苯乙烯

别 名 4-乙烯基苯基乙酸酯 |4-乙酰氧基苯乙烯 | 乙酸-4-乙烯基苯基酯

英文名 4-Ethenylphenol acetate

CAS号 2628-16-2

EINECS 434-600-2

分子式 C10H10O2

分子量 162.185

密 度 1.1±0.1 g/cm3

沸 点 260.0±0.0 °C

熔 点 7-8 °C

闪 点 87.8±0.0 °C

性 状 无色液体

用 途

4-乙酰氧基苯乙烯可用于合成作为光致抗蚀剂(光刻胶)主要成分的聚对羟基苯乙烯。聚对羟基苯乙烯系列的化学增幅型光致抗蚀剂是目前国际上主流的光致抗蚀剂产品，是用于处理光蚀刻集成电路、制造芯片的关键技术之一。光蚀刻技术由生产0.3～0.28μｍ线宽，发展到改用深紫外光（波长248nm）生产0.18μｍ线宽，更可通过超深紫外光（波长193nm）刻画线宽达0.11μｍ的微细回路。248nm光刻胶通常采用聚对羟基苯乙烯衍生物为成膜树脂，芳基碘鎓盐或硫鎓盐作为光致产酸剂，运用化学增幅技术，在光作用下光致酸发生剂释放出酸，然后酸催化使聚合物交联(负胶)或发生脱保反应(正胶)，从而使感光灵敏度极大地提高。