苏州北科纳米科技有限公司
背栅器件结构:金电极/CVD 单层MoSe2(或者机械剥离单层MoSe2)/300nm SiO2/Si 1) 器件种类1, CVD三角MoSe2单层单晶, 5um沟道,300nm氧化硅硅片基底,背栅结构 |
¥ 2250
背栅器件结构:金电极/CVD 单层MoSe2(或者机械剥离单层MoSe2)/300nm SiO2/Si 1) 器件种类1, CVD三角MoSe2单层单晶, 5um沟道,300nm氧化硅硅片基底,背栅结构 |