二手13S宇环双面抛光机 平磨机 双面磨床

主要适用于硅片、石英晶片、光学晶体、玻璃、宝石、铌酸锂、砷化镓、陶瓷片等薄脆金属或非金属的研磨或抛光。

本系列研磨机为精密磨削设备,上、下研磨盘作相反方向转动，工件在载体内作既公转双自转的游星运动.磨削阻力小不损伤工件,而且两面磨削均匀,生产效率高.
二手13S宇环双面抛光机 平磨机 双面磨床

机特点：

1、采用交流滑差电机驱动、软启动、软停止、运转较平稳。

2、下研磨盘可升降，摆放工件和取下工件都很方便。

3、上盘设置了缓降，不但有效防止了薄脆工件的破碎，而且还可独立进行压力控制。

4、使用了压力预置计数方式控制研磨压力，研磨的圈数，要求可准确控制。

5、可以采用修盘方式修整研磨盘。

技术参数
1、研磨盘直径(MM):φ622×φ218×25(上盘)φ622×φ218×30(下盘)
2、最大理想研磨直径(MM)：φ180
3、加工件平面度：0.2μ(φ10)
4、游轮参数：英制DP12，Z=108
5、游轮数量：5个
6、最小研磨厚度：0.1mm(φ10mm)
7、主机功率：3.7KW(研磨)5.5KW(抛光)
8、下研磨盘转速(rpm): 0~60rpm
9、砂泵功率：120W
10、流砂形式：循环或点滴
11、设备外形尺寸(MM)：单电机 1350X950X2200MM 抛光机 1500X1000X2200
12、重量(KG)：~1980kg
1、采用交流变频电机驱动，软启动、软停止，平稳可靠。
2、油压升降齿圈、非常平稳，太阳轮下有垫片可调整位置，有效利用了齿圈和太阳轮。
3、上盘单独设置了缓降气缸，不但有效防止了薄脆工件的破碎，而且还可独立进行压力控制。
4、通过使用电子预置计数器，研磨的圈数、要求可准确控制。
5、可以采用修盘方式修整研磨盘。
二手13B 15B兰州瑞德双面抛光机 平磨机产品用途：
本机器主要用于压电晶体、化合物半导体、硅晶体、光学玻璃、陶瓷片、视窗玻璃、金属材料以及其他硬脆性材料的高精度、高效率的双面平磨/抛光加工。

抛光研磨的的使用

在普通抛光机的基础.上改进创新发展起来的.适用于产量比较大的工厂使用.

抛光机操作的关键：

1.要设法得到最大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层.

2.要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织，即不会造成假组织.

3.解诀这个矛盾的最好的办法就是把抛光分为两个阶级进行.

4.粗抛目的是去除磨光损伤层，具有最大的抛光速率.。

5.粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小.

6.精抛，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到最小.

外圆抛光机操作方法：

1.操作人员只需将要抛光的物件事先摆放在相应的夹具之上.。

2.将夹具固定在外圆抛光机工作台上.

3.启动外圆抛光机，外圆抛光机在设定时间内完成抛光工作.

4.自动停止，在从工作台上卸下物件即可.

5.外圆抛光机抛光前，需要调整好抛光头与工作台面的距离.以达，抛出最好的效果.

6.抛光过程中可以使用手工打蜡，以降低机器制造成本.用途:用于细长轴、圆管、圆钢

表面抛光.

二手设备清单
1	抛光设备	日本（HAMAL 创技）：9到40B
		德国双端面磨床（皮特沃斯：319 320）
		台湾多米诺单面抛，国产单面抛（900到1.7米）
		台湾环抛机（610 900 1米）
		国产抛光机（瑞德9B 13B 15B 16B 20B）
2	检测设备	干涉仪（美国ZYGO 日本富士 日本奥林巴斯）
		日本岛津光度计（ 1700 1800 2450 2550 2601）
		进口光谱仪（日本日立4100 傅立叶红外光谱仪）
		平坦度测试仪（进口FT17 康宁100）
		日本帕尔：中心仪 日本尼康：准直仪
3	奥林巴斯透镜设备	日本春进下摆机，球面铣磨机，上摆机，推拉机，芯取磨边机
4	玻璃加工设备	中航仿开机：150
		精雕机（北京精雕，台湾大量，恒远，远洋，佳铁）
		切割机（韩国全自动切割机，台湾精一异形切割机 台湾裂片机）
5	测量设备	二次元影像测量仪（全新二手各种型号特价出售 ）
		三坐标（思瑞 三丰 杜芬品牌）
6	镀膜设备	德国莱宝，新科隆，光驰，韩一，成都南光
7	配件辅料	抛光皮，金钢砂盘，修正轮