CVD化学气相沉积碳镀膜机特点：

■采用多层隔板设计，批量处理模压光学镜片的碳镀膜工艺，每炉可放数千个镜片；

■智能化PLC程序升温程序，真空程序，CVD进气程序，操作简单方便；

■优质干式真空泵，杜绝油液污染，可选择国产干式泵和进口干式泵；

■智能化CVD进气控制系统，适应于氮气、乙炔/甲烷、氩气、空气的通入和混合；

■先进的密封系统，泄漏率低，长期使用稳定性高；

CVD化学气相沉积碳镀膜机详细资料：

主要用途

■适用于模压非球面光学玻璃镜片的碳镀膜工艺；

■适应于半导体行业晶圆表面薄膜生长；

■可用于陶瓷及单晶体表面沉积碳纳米管工艺；

产品技术参数

产品型号： DH-30-700（大华）

最高温度： 700℃；

使用气氛：氮气、氩气、空气、二氧化碳、乙炔、甲烷、合气体；

长期使用：400-700℃；

波动度： ±1℃；

显示精度： 0.1℃；

均匀度：容积30L；

进气流量：三路MFC质量流量计控制，一路浮子流量计控制；

升降系统：两套伺服升降系统平台；

控制系统：智能程序化PLC控制系统；

真空泵真空度：极限真空1Pa；

腔内真空度：≤10Pa；

降温要求：外置冷却风机，降温阶段强制降温；

整机功率： 18KW；

电源： 380V, 50Hz；

水冷装置：优质水冷机,PLC联机控制

保护装置：过载、过流、过压保护，接地，热电偶异常报警，第二回路超温报警保护装置；冷却水温保护，压力过载保护；