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TMAl-三甲基铝-高纯金属有机化合物-ALD前驱体

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全椒亚格泰电子新材料科技有限公司
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无色透明液体,熔点15℃,沸点127℃,密度0.752g/mL。在空气中瞬间就能着火自燃,与具有活性氢的醇、酸及水剧烈反应。与己烷、庚烷等脂肪烃及甲苯、二甲苯等芳香烃以任意比例混溶。

在光伏领域用于PECVD或ALD沉积Al2O3钝化膜;在半导体制造,用于沉积High-k材料介质薄膜,如Al2O3;同时,TMA还是有机金属化学气相沉积法(MOCVD)制造含铝半导体(如AlAs, AlN, AlP, AlSb, AlGaAs, AlInGaAs, AlInGaP, AlGaN, AlInGaN, AlInGaNP等)中有机金属的重要来源。

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