三甲基镓在常温常压下为无色透明有毒液体。在空气中易氧化，在室温自燃，燃烧时发出金属氧化物白烟。高温时自行分解。它在已烷、庚烷等Chemicalbook脂肪族饱和烃和甲苯、二甲苯等芳香族烃中以任何比例相溶。与水激烈反应生成Me2GaOH和[(Me2Ga)2O]X，并放出甲烷气。

三甲基镓（Ga(CH3)3，TMG）是MOCVD工艺技术生产光电材料如氮化镓等的关键MO源原料，为MO源化合物中应用最广泛的金属有机化合物。MO源，即金属有Chemicalbook机化合物，是光电半导体材料行业等领域的重要金属来源，是MOCVD工艺（即金属有机化学气相沉积工艺）等工艺技术生产制备合成新型半导体光电化合物材料的基础源材料。