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4英寸氮化镓厚膜晶片(Si掺杂)

¥ 260

  • ≥ 20 起订量
  • 10000微米 总供应
  • 江苏 苏州 所在地
苏州凯发新材料科技有限公司
产品详情


货号 CAS号 编号 包装 参数 库存 补货期 价格
BK2020081711-01 BK2020081711 4.5±0.5μm 100 3960
BK2020081711-02 BK2020081711 20±2μm 100 5160


性能参数:

  • 产品型号 GaN-T-C-N-C100
    尺寸 Ф 100 ± 0.1 mm
    厚度 4.5±0.5 μm, 20±2 μm
    晶体取向 C-plane(0001) ± 0.5°
    导电类型 N-type(Si-doped)
    电阻率(300 K) 0.05Ω·cm
    载流子浓度 1x1018cm-3
    迁移率 ~ 200cm2/V?s
    位错密度 Less than 5x108cm-2(estimated by FWHMs of XRD)
    衬底结构 GaN on sapphire (standard :SSP option:DSP)
    有效面积 90%
    包装 Packaged in a class 100 clean room environment, in cassette of 25pcs
    or single container , under a nitrogen atmosphere.


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