真空式等离子处理系统CRF-VPO-2L-S

名称（Name）

真空式等离子处理系统

型号（Model）

CRF-VPO-2L-S

控制系统（Control system）

PLC 触摸屏

电源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz, 3kw

中频电源功率（RF Power）

1000W/40KHz

容量（Volume ）

10L(Option)

层数（Electrode of plies ）

2(Option)

腔体规格（Area）

220(W)*230(D)*230(H)

气体通道（Gas）

两路工作气体可选：Ar、N2、CF4、O2

产品概述

设备参数

产品特点

超大处理空间，提升处理产能，采用PLC 触摸屏控制系统，精准的控制设备运行；

可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求；保养维修成本低，便于客户成本控制；

高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。

应用范围

真空等离子清洗机适用于印制线路板行业，半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业：高频板表面活化，多层板表面清洁、去钻污、软板、软硬结合板表面清洁、去钻污，软板补强前活化。半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗；硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。

真空腔体里,射频电源在一定的压力情况下起辉能产生高能量

真空等离子清洗原理:

等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。

在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面．以达到清洗目的。

真空等离子清洗的优势 :

等离子清洗作为重要的材料表面改性方法，已经在众多领域广泛使用。

1）处理温度低，处理温度低至80℃、50℃以下，以确保对样品表面不造成热影响。

2）由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染，所以处理全程无污染，与原有生产流水线搭配，实现全自动在线生产，节约人力成本。

3）等离子清洗使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题。

4）使用等离子清洗，可以使得清洗效率获得极大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成，因此具有产率高的特点。

5）等离子体清洗可以不分处理对象，它可以处理各种各样的材质，无论是金属、半导体、氧化物，还是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物）都可以使用等离子体来处理。因此特别适合于不耐热以及不耐溶剂的材质。而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗。

6）使用等离子清洗，避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施，所以生产场地很容易保持清洁卫生。