多晶硅清洗等离子表面处理机供应：诚峰智造

自动On-Line（轴轮式）式AP等离子处理系统CRF-APO-500W-W

型号（Model）

CRF-APO-500W-W

电源（Power supply）

220V/AC,50/60Hz

功率（Power）

2set*1000W/25KHz(Option)

处理宽幅（Processing width）

50mm-500mm（Option）

有效处理高度（Processing height）

5-15mm

处理速度（Processing speed）

0-5m/min

传动方式（Drive mode）

防静电绝缘滚轮

喷头数量（Number）

2（Option）

工作气体（Gas）

Compressed Air（0.4mpa）

产品特点：配置专业运动控制平台，PLC+触摸屏控制方式，采用精准运动模组，操作简便；

可选配喷头数量，满足客户多元化需求；

配置专业集尘系统，保证产品品质和设备的整洁、干净；

应用范围：主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理，手机屏幕的表面处理；工业的航空航天电连接器表面清洗；通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。

半导体封装行业，包括集成电路、分立器件、传感器和光电子的封装，通常会用到铜材质的引线框架，为了提高键合和封塑的可靠性，一般会把铜支架经过几分钟的等离子清洗机处理，来清除表面的有机物、污染物，增加其表面的可焊性和粘接性。

　　有的时候我们会发现，铜支架在等离子清洗机的真空环境下如果处理不当，容易出现表面变色和发黑，严重的甚至是出现烧板等现象。难道是因为腔体里面的空气没有抽干净吗?残余空气中氧分子被激发，形成的氧等离子体与铜表面发生化学反应而形成氧化铜的结果?原因真的就这么简单吗?诚峰智造资深工程师结合多年的等离子清洗铜支架的实践经验，与大家一起分析一下。

　　1 等离子清洗机真空度影响铜支架清洗效果和变色

　　等离子清洗机真空度关联因素包括真空腔体漏率、背底真空、真空泵的抽速和工艺气体的进气流量等。真空泵抽速越快，背底真空值越低，说明里面残留的空气就越少，铜支架与空气里面的氧等离子体反应的机会就会越少;当工艺气体进入，形成的等离子体可以充分地与铜支架发生反应，没有被激发的工艺气体可以把反应物轻松带走，铜支架清洗效果会好，不容易变色。

　　2 等离子清洗机电源功率对铜支架清洗效果和变色的影响

　　等离子清洗机电源功率关联因素包括能量功率大小和单位功率密度。电源功率越大，等离子体能量就越高，对铜支架的表面轰击力就越强;同等功率的情况下，处理的铜支架越少，单位功率密度就会越大，清洗的效果就会越好，但有可能会造成能量过大，板面变色或者烧板。

　　等离子清洗机的等离子电场分布关联因素包括电极结构、气体流向和铜支架的摆放位置等相关。不同处理材料、工艺需要以及产能要求，对电极结构的设计是不一样的;因此气体流向会形成一个气场，对等离子体的运动、反应、均匀性都会有影响;铜支架的摆放位置，会影响到电场和气场特性，导致能量分配不均衡，局部等离子密度过大而烧板。

实践证明了等离子清洗机的处理时间、电源频率、包括载具类型等都会对铜支架的处理效果和变色也是有影响的。

说到等离子处理设备，废气处理用的等离子光解净化器、金属焊接切割用的等离子弧焊机、产品材料表面处理用的等离子清洗机都是属于等离子处理设备的一种，你对等离子清洗机处理有所了解吗?有没有废气废水产生呢?说其更环保和安全有没有道理?

　　等离子清洗机是专门用于材料和产品的表面处理及改性处理的等离子处理设备，气体辉光或亚辉光放电的方式产生等离子体，可实现不同的处理目的。通常所常见的等离子清洗机有两种，一种是低压真空等离子表面处理设备，一种是常压大气等离子表面处理设备，下图分别为真空和大气型的等离子清洗机。

　　与湿法的化学处理工艺不同，等离子清洗机处理是一种干式处理工艺，如何理解呢?简单来说，等离子清洗机所使用的通常都是气体，且为常见的氧气、氮气、压缩空气等气体，不需要使用有机化学溶液，而且处理所产生的大多也是二氧化碳等无害气体，正因反应物和产生物都为气体，也就不需要进行烘干、废水处理，因此说等离子清洗机处理没有废气废水是可以实现的。

　　等离子清洗机处理更加环保安全?从反应物和产生物来看，确实更加环保和节约能源，而且从工艺来看，工艺也更加简单安全，另外就日常处理成本来看，仅需少量用电和耗材维保费用。