铝靶、铜靶用于导电层薄膜。在半导体芯片制造的金属化工艺过程中，氧化钨薄膜是一种被广泛研究的功能材料。芯片行业拥有一条超长的产业链。其整体可分为设计、制造、封装、测试四大环节。除了在设计领域，华为海思拥有一定的突破能力，其他三个环节，尤其是在制造环节，国内厂商的能力仍有极大的提升空间。

尽管全世界各大厂生产的材料几乎都能99.99%的纯度，但却唯有日本厂商的材料能将纯度达到99.999%。半导体材料主要分为晶圆制造材料和封装材料，化学品、电子气体、CMP抛光材料、以及靶材等；芯片封装材料包括封装基板（39%）、引线框架、树脂、键合丝、锡球、以及电镀液等。磷化铟靶材(InP)，铅靶材(PbAs)，铟靶材(InAs)。

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