靶材是微电子行业的重要支撑产业之一，如果我们能及时抓住机遇发展我国的靶材产业，不仅会缩短与国际靶材水平的差距，参与国际市场竞争，还能降低我国微电子行业的生产成本，提高我国电子产品的国际竞争力。微电子行业的高速发展为中国靶材产业的发展提供了机遇靶材的分类根据应用主要包括半导体领域应用靶材、记录介质用靶材、显示薄膜用靶材、光学靶材、超导靶材等。

市场上对靶材的分类及其对应的材料种类和应用领域划分得较为详细。其中半导体领域应用靶材、记录介质用靶材和显示靶材是市场规模较大的三类靶材。靶材形状有长方体、正方体、圆柱体和不规则形状。长方体、正方体和圆柱体形靶材为实心，溅射过程中，圆环形永磁体在靶材表面建立环形磁场。

目前，国内外钛铝合金靶材在纯度方面的差距显著，国内所生产的钛铝合金靶材能达到4N级，而日本相关靶材厂家制备的镍铬靶可以达到5N以上。超高纯、高利用率与良好的溅射沉积均匀性是高质量靶材所追求的优良特性，因此在靶材基本制备方法的基础上，需要不断优化工艺提高靶材质量，具体地，从高纯化、提高磁透率(PTF)以及组织结构控制等方面提高靶材质量，将成为钛铝合金靶材制备工艺的发展趋势。

钛铝合金靶材  旋转钛铝靶 铝钛合金靶 客户定制靶材（UVTM）