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镍钒(NiV)合金靶材 纯度3N 3N6 4N

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西安齐岳生物科技有限公司
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产品名称: 镍钒(NiV)合金靶材

元素符号: Ni V

纯度: 3N, 3N6, 4N

形状 :平面靶 旋转靶 异型定制

镍钒合金靶材的描述:在集成电路制作中一般用纯金做表面导电层,但金与硅晶园容易生成AuSi低熔点化合物,导致金与硅界面粘接不牢固,人们提出了在金和硅晶圆的表面增加一粘接层,常用纯镍做粘接层,但镍层和金导电层之间也会形成扩散,因此需要再有一阻挡层,金导电层和镍粘接层之间的扩散。阻挡层需要采用熔点高的金属,还要承受较大的电流密度,金属钒能满足该要求。所以在集成电路制作中会用到镍溅射靶材、钒溅射靶材、金溅射靶材等。镍钒溅射靶材是在制备镍钒合金靶材过程中,在镍熔体中加入钒,使制备出的合金更有利于磁控溅射,结合了镍溅射靶材和钒溅射靶材的优点,可一次完成溅射镍层(粘接层)和钒层(阻挡层)。镍钒合金无磁性,有利于磁控溅射,在电子及信息产业中,正在逐步替代纯镍溅射靶材。下图是镍钒 (93/7wt%) 合金溅射靶材的显微金相检测图片,平均粒径100μm。

?镍钒靶材制备工艺流程

备料 - 真空感应熔炼 - 化学分析 - 锻造 - 轧制 - 退火 - 金相检测 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 终检 - 包装 镍钒靶材产品用途:

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产品名 元素符号 纯度
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钼靶材 Mo 纯度:3N5
铌靶材 Nb 纯度:3N5
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钨靶材 W 纯度:3N5

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温馨提示:西安齐岳生物提供的所有产品仅用于科研,axc.2021.01.19


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