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锗(Ge)晶体基片材料

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西安齐岳生物科技有限公司
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锗(Ge)晶体材料

用途:制作半导体器件,红外光学器件,及太阳能电池沉底等材料。

生长方法

提拉法

晶体结构

立方

晶格常数

a=5.65754 ?

密 度

5.323g/cm3

熔点

937.4℃

掺杂物质

不掺杂

Sb

Ga

类型

/

N

P

电阻率

35Ωcm

0.01~10Ωcm

0.01~10Ωcm

EPD

4×103∕cm2

4×103∕cm2

4×103∕cm2

尺寸

10x310x510x1015x15,,20x1520x20

Dia4",Dia3";Dia2”;或按照客户要求划片

厚度

0.5mm1.0mm

抛光

单面或双面

晶向

晶面定向精度:

±0.5°

边缘定向精度:

(可达以内)

斜切晶片

可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角45°)的晶片

Ra:

≤5?5μm×5μm

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名称 尺寸 应用

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yyp2021.1.19

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