研磨液优点

调制磨料

* 含特种极压润滑添加剂，研磨过程中降温，及时冷却刀具，可显著减少刀具磨损;

* 采用高分子水/油溶性防锈剂，对设备及工件有极好的防锈性;

* 低泡沫倾向，清洗性能好，代替传统乳化油(又称皂化油、太古油)

* 透明度高，有利于监察工件的表面加工状态

* 使用寿命长，一年以上更换期，符合环保要求，减少浪费，提高生产效率。

* 对操作工人皮肤无伤害、及机台油漆无影响，且有保护作用。

 

 

 

产品特点：

1.分散性好、不结晶 。

2.粒径分布广泛：5-100nm。

3.高纯度(Cu2+含量小于50 ppb)，有效减小对电子类产品的沾污。

4.经特殊工艺合成的化学机械抛光液，纳米颗粒呈球形，单分散，大小均匀，粒径分布窄，可获得高质量的抛光精度。

5.适合与各种抛光垫、合成材料配合抛光使用。

6.PH、粒径、稳定离子等可以根据客户定制(10-150 nm)

 

抛光过程中具有：

1.高抛光速率，利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的。（可以生产150 nm）。

2.高平坦度加工，本品抛光是利用SiO2的胶体粒子，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工。

 

抛光过程后具有：

1.精度可以达到A级

 

 

 

碱性型号（pH:9.8±0.5）	SOQ-2A	SOQ-4A		SOQ-6A	SOQ-8A	SOQ-10A		SOQ-12D
酸性型号（pH:2.8±0.5）	ASOQ-2A	ASOQ-4A		ASOQ-6A	ASOQ-8A	ASOQ-10A		ASOQ-12D
粒径(nm)	10~30	30~50		50~70	70~90	90~110		110~130
外观	乳白色或半透明液体
比重	1.15±0.05
组成	成份		含量（w%）		抛光压力		150~250g/cm2
	SiO2		15～30		抛光温度		32~40℃
	Na2O		≤0.3		稀释率		<1:1~20
	重金属杂质		≤50 ppb		抛光时间		3~6 min