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氧化钛靶材旋转氧化钛靶材氧化钛旋转靶材TiOx靶材

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广州市尤特新材料有限公司
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 随着电子信息产业的飞速发展,薄膜科学应用日益广泛。溅射法是制备薄膜材料的主要技术之一,溅射沉积薄膜的源材料即为靶材。用靶材溅射沉积的薄膜致密度高,附着性好。20世纪90年代以来,微电子行业新器件和新材料发展迅速,电子、磁性、光学、光电和超导薄膜等已经广泛应用于高新技术和工业领域,促使溅射靶材市场规模日益扩大。如今,靶材已蓬勃发展成为一个专业化产业。目前,全世界的靶材主要由日本、美国和德国生产,我国靶材产业的研发则相对滞后。虽然国内也有一些大学和研究院对靶材进行了研制,但仍处于理论研究和试制阶段,尚没有专业生产靶材的大公司,大量靶材还需进口。如今,微电子等高科技产业的高速发展促进了中国靶材市场日益扩大。

尤特新材料,专业研发、生产和销售陶瓷靶材,原厂供应旋转氧化钛靶 (Rotatable TiOx target),应用于制作TiO2膜,主要用于光学玻璃AR膜系,Low-E玻璃膜系。氧化钛靶 硼化钛靶 纯钛靶 平面钛靶 旋转钛靶(UVTM)



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