靶材，是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材，它是半导体芯片制造中不可或缺的环节和材料。半导体芯片的需求市场比较庞大，集中在手机、PC、服务器、AI、物联网、电子汽车、5G等领域，庞大的市场还是手机、PC、可穿戴设备等电子消费产品。全球电子产品消费市场都不景气，且短期内很难迎来报复性增长。中国的集成电子领域是一个稳步增长的发展阶段，中芯国际等优势企业像雨后春笋般涌现出来。靶材：就是溅射工艺中必不可少的重要原材料。什么是高纯溅射靶材？就是利用各种高纯单质贵金属及新型化合物制得的功能薄膜为（简单理解就是纯度更高），的领域，像集成电路、平板显示器、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等行业。在溅射靶材应用领域中。半导体芯片对溅射靶材的要求是高的。

旋转铌靶 Rotatable Nb target
应用：广泛用于光学玻璃，触摸屏之AR膜系，Low-E玻璃膜系

产品化学成分和物理性能：
化学式：Nb
成型工艺：喷涂
密度: >8.5g/cm3
纯度: > 99.9%
杂质含量 （单位: ppm， 总杂质含量≤ 1000ppm)

加工尺寸
长度L 4000MM 厚度T 6-13MM
直型、狗骨型
按客户要求定做

包装方式：真空密封包装，使用标准出口木箱。

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