300mm硅片工艺用Al、Ti、Ta靶材制造技术研发与产业化的项目验收，该产品直接用于iphone奥迪等产品，iPhone7核心处理器A10芯片也采用了该公司的产品，这是中国电子材料第一次大规模应用在16nmFinFET+技术产品上。其中又以日本日矿和三井为主，其两家几乎占据了高端TFT-LCD市场用ITO靶材的全部份额和大部分的触摸屏面板市场。随着消费者对大尺寸电视及智能手机需求的增长，平板显示器尺寸迅速增大，推动平板显示器行业规模不断增大，市场规模增速达到20%。硬盘容量快速增长带动带动上游靶材需求增长。未来几年HDD的出货总容量依然会保持增长态势，长率达到18%。受机械硬盘出货容量增长的带动。

旋转硅靶Si

化学式: Si

电阻率（20°C）: 0.01-400Ω.cm
成型工艺: 喷涂
密度:  ≥ 2.26g/cm3（≥96%）
纯度:  ≥ 99.9% 
应用:  用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光学玻璃，触摸屏之AR膜系，LOW-E镀膜玻璃，半导体电子，平面显示，触摸屏
加工尺寸:   长度: 4000MM    厚度: 6-10MM,  直型、狗骨型, 按客户要求定做