目前制备薄膜电池较为常用的溅射靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及ITO靶、AZO靶(氧化铝锌)等，HIT电池主要使用ITO靶材作为其透明导电薄膜。靶材也逐步向国产化方向努力;设备进口替代降低投资成本。机构预测，到2023年，国内光伏电池用溅射靶材市场将达60亿元。

磁记录靶材市场可达107亿元，显示面板用靶材市场规模有望达到246亿元。溅射靶材种类繁多，就ITO导电玻璃中使用硅靶.铝靶.铌靶等三种以上。半导体靶材：用于晶圆导电阻挡层及封装金属布线层制作。铜靶和钽靶通常配合起来使用。根据应用领域的不同，靶材的材料、形状也会有所差异。根据形状可分为长(正)方体形、圆柱体形、无规则形以及实心、空心靶材。

旋转氧化铟锡靶ITO

化学式：In2O3:SnO2

成型工艺: 冷等静压+高温烧结+帮定
密度: ≥ 7.13g/cm3（≥99.7%）
纯度: ≥ 99.99%
应用: 主要用于TN，STN型液晶显示器和触摸屏，半导体电子，薄膜太阳能行业，建筑玻璃