靶材的密实度也对镀膜过程及膜层的性能有着重要的影响，靶材的密实度不仅影响溅射时的沉积速率、溅射膜粒子的密度和放电现象等，还影响着溅射薄膜的电学和光学性能。靶材越密实，溅射膜粒子的密越低，放电现象越弱，而薄膜的性能也越好。

      高纯溅射靶材主要是指纯度为99.9%-99.9999%(3N-6N之间)的金属或非金属靶材，应用于电子元器件制造的物理-气象沉积(PVD)工艺，是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。。自19世纪中期至今，溅射镀膜技术经历了170年的沉淀与发展逐步走向成熟。溅射镀膜技术起源于国外，所需要的溅射材料——靶材也起源发展于国外。1842年格波夫在实验室中发现了阴极溅射现象。