PVD镀膜目前主要有三种形式，分别是溅射镀膜、蒸发镀膜以及离子镀膜。溅射镀膜是薄层沉积的工艺之一。溅射过程中，材料从靶材里弹射出来，沉积在像硅片，显示屏和光学薄膜的基质上。

溅射法是制备薄膜材料的主要技术之一，靶材，产生的原子放射出来累积在基体的表面，形成镀膜。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，这种原材料称为溅射靶材，镀覆薄膜的关键就是这种被称为“靶材”的器件。据了解，目前只有主流企业的电池转换效率够得上新版发布的标准。在靶材领域，日本的日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯占据了大部分市场。相比之下，而且导致了对于日本半导体材料的高度依赖。去年日韩贸易战中，日本列入限制出口名单的高纯度材料，其主要用途为半导体的湿式刻蚀。