产品介绍：

全自动二流体离心清洗机主要用于摄像头模组表面微尘清洗、PCB在固晶（D/B）前的清洗、芯片固晶（D/B）、打线（WB）之后清洗、LENS、VCM、HOLDER+IR组装前的清洗，通过高压纯水冲洗及水气二流体清洗，从而实现了有效去除Holder，CMOS本体，Wafer等表面微尘颗粒。

适用范围：

使用于Wafer, CMOS本体, 基板, CCD外壳粉屑、 杂质.Holder,Holder+IR,Lens, VCM等清洗作业；

特点：

全自动编程控制，运行系统稳定，清洗效率高

可调变速离心式，清洁效果好

全不锈刚密闭机身，操作简单

操作界面友好，功能一目了然，易操作

超大型冲洗箱，增加效率

前置式作业，无二次污染

机身小巧，调配方便

运行低噪音，无尘室专用设计

纯水自动加压过滤