厂家：k-Space Associates, Inc.

型号：kSA 400

原理：       通过对RHEED入射电子能量的控制，用高分辨、高速CCD直接采集来自样品对电子束的衍射图像，并通过专业软件系统对其进行图像处理                     和数据分析；

分析功能：同时测量晶格间距、相干长度和晶体表面结构演化；薄膜沉积速率和沉积厚度分析；三维衍射图像分析等；

                应用：可装在各种薄膜沉积设备上，对材料的多项物理特性进行实时在线分析；

主要特性: 1. 衍射图像采集采用先进的CCD和光学系统； 

               2. 适用于MBE、 PLD、溅射和电子束蒸发等多种薄膜沉积系统； 

               3. 持续不断的软件系统更新； 

               4. 包含锁相外延生长（PLE）、低能电子衍射（LEED）、俄歇电子能谱/光电子能谱（Auger/XPS）等可选功能； 

               5. 实时的薄膜生长速率、晶格间距和表面均匀性分析； 

               6. 专业的技术支持； 

               7. 多个品牌的电子枪各种控制功能可供选择；