阴影掩模对准器旨在将掩模与基板精确对准。使用例如荫罩允许进行无光刻的薄膜沉积。一旦晶圆在掩模下面对准，两个基板将被夹在双卡盘中。然后可以将夹有基板的双卡盘插入PVD室中进行蒸发。在沉积之后，将分离双卡盘并且可以取出基板。

除了阴影遮罩之外，idonus遮罩对齐器还具有广泛的应用程序，例如：

阴影遮罩
粘接对齐
和更多...

简单

真空夹紧能力和3轴手动对准功能使该面罩对准器非常易于使用。

灵活性

对准器已设计为可与多种晶圆尺寸和形状（标准与否）一起使用。Idonus可根据您的需要制造卡盘。

精确

与显微镜结合使用，可以实现最小±5 µm的对准公差。Idonus提出了他自己的双图像显微镜用于对准控制。用户可以同时聚焦和可视化2个对齐位置，以简化对齐过程。

双像显微镜

使用Idonus双图像显微镜可实现+/- 5 µm的精确对准。通过两个摄像机在PC上监视对齐情况。该设备旨在与我们的掩模对准仪结合使用，但也可以用作独立设备。