深圳微纳电子科技有限公司
键合技术---Bonding Technology是指基底表面进行过清洁或活化处理,原子级平整的同质或异质半导体材料,在一定的温度、压力和电压下,由于范德华力的作用,在两片基底界面处发生化学作用而键合在一起的技术。键合工艺类型:阳极键合、硅硅键合、共晶键合、胶类键合,引线键合等。
我们提供键合类型:
阳极键合(pyrex 玻璃和硅片);
共晶键合(PbSn,AuSn,CuSn,AuSi等等)焊料由客户提供;
胶键合(AZ4620,SU8,键合专用胶);
引线键合;
其他。
光刻技术--Lithography Technology光刻一种精密的微细加工技术。常规光刻技术是采用紫外光作为图像信息载体,以光致抗光刻技术蚀剂为中间(图像记录)媒介实现图形的变换、转移和处理,最终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。
公司提供电子束光刻、步进式光刻、接触式光刻等光刻技术,线宽最小可达10nm,多种光刻结合的先进光刻理念,实现您不同尺寸的光刻需求。
电子束光刻:最小线宽50nm(成熟),适合在导电衬底、图形面积小的图形加工。
投影式光刻:stepper i7/i10/i12,最小线宽350nm,适合在标准圆片上有量加工。
接触、接近式光刻:MA6/BA6光刻机,最小线宽1um,适合正反套刻,衬底包容性高。