成型工艺:??挤压
?密度:??≥2.7g/cm3（≥97%)
?电阻率（Resistivity）?（20°C）:?
?纯度:??99.9%
应用:?广泛用于光学玻璃，触摸屏玻璃膜系，导电玻璃，TFT-LCD?，触摸屏，半导体电子
加工尺寸：?长度L2500*宽度W300*厚度T25mm,多片拼接帮定在铜背板上,按客户要求定做

成型工艺: ?挤压 ?密度: ?≥2.7g/cm3（≥97%) ?电阻率（Resistivity） （20°C）:<0.028 ohm. cm ? 纯度: ?99.9% 应用: 广泛用于光学玻璃，触摸屏玻璃膜系，导电玻璃，TFT-LCD ，触摸屏，半导体电子 加工尺寸： 长度L2500*宽度W300*厚度T25mm,多片拼接帮定在铜背板上,按客户要求定做