旋转硅靶Si

化学式: Si

电阻率（20°C）: 0.01-400Ω.cm
成型工艺: 喷涂
密度:  ≥ 2.26g/cm3（≥96%）
纯度:  ≥ 99.9% 
应用:  用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光学玻璃，触摸屏之AR膜系，LOW-E镀膜玻璃，半导体电子，平面显示，触摸屏
加工尺寸:   长度: 4000MM    厚度: 6-10MM,  直型、狗骨型, 按客户要求定做