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Aerotech qnp2 双轴压电纳米定位平台
关键词：纳米定位平台/压电平台/压电双轴定位平台
QNP2系列XY并联运动压电定位平台在紧凑，小巧的封装中结合了亚纳米级分辨率，高动态性能和出色的几何性能。QNP2系列压电平台具有大的，清晰的孔径，闭环行程可达200 μm x 200 μm（开环行程为240 μm x 240 μm）。该设计非常适合光学显微镜，扫描探针显微镜，X射线透射显微镜或需要两侧零件访问的其他检查或制造应用。
XY双轴压电陶瓷平台：
移至240 μm x 240 μm
大方形透明光圈，70 mm x 70 mm
通过并联运动设计实现出色的多轴精度
高刚度和动态特性，可实现高工艺产量
高精度，无摩擦的挠性导向
正在申请专利的设计提供了无与伦比的几何性能
设备寿命长
具有直接计量电容传感器的出色定位分辨率和线性度
开环和真空版本
Mechanical Specifications
Model |
QNP2-100XYA-030 |
QNP2-100XYA-100 |
QNP2-150XYA-200 |
|
Closed-Loop Travel (X x Y) |
30 μm x 30 μm |
100 μm x 100 μm |
200 μm x 200 μm |
|
Open-Loop Travel, -30 to +150 V(1) |
36 μm x 36 μm |
120 μm x 120 μm |
240 μm x 240 μm |
|
Resolution(2) |
Closed-Loop |
0.1 nm |
0.30 nm |
0.40 nm |
Open-Loop |
0.03 nm |
0.15 nm |
0.20 nm |
|
Linearity(3,4) |
0.02% |
0.01% |
0.01% |
|
Bidirectional Repeatability(5) |
4 nm |
1 nm |
1 nm |
|
Straightness |
25 nm |
10 nm |
10 nm |
|
2D Flatness (Over Full XY Travel) |
15 nm |
5 nm |
15 nm |
|
Pitch |
5 μrad (1 arc sec) |
1.5 μrad (0.3 arc sec) |
1.5 μrad (0.3 arc sec) |
|
Yaw |
5 μrad (1 arc sec) |
12 μrad (2.5 arc sec) |
20 urad (4 arc sec) |
|
Stiffness (in direction of motion)(6) |
33 N/μm |
2.1 N/μm |
1.7 N/μm |
|
Unloaded Resonant Frequency(6) |
2400 Hz |
565 Hz |
375 Hz |
|
Resonant Frequency (200 gram load)(6) |
1725 Hz |
380 Hz |
290 Hz |
|
Max Payload(7) |
1 kg |
1 kg |
3 kg |
|
Maximum Acceleration (Unloaded)(8) |
400 m/s2 |
170 m/s2 |
40 m/s2 |
|
Moving Mass (Unloaded) |
0.14 kg |
0.14 kg |
0.5 kg |
|
Stage Mass |
0.36 kg |
0.48 kg |
1.2 kg |
|
Material |
Anodized aluminum(9) |
Anodized aluminum(9) |
Anodized aluminum(9) |
|
MTBF (Mean Time Between Failure) |
30,000 hours |
30,000 hours |
30,000 hours |
|
XYZ双轴压电陶瓷平台：
QNP3系列XYZ并联运动压电定位平台在紧凑的小尺寸封装中结合了亚纳米分辨率，高动态特性和出色的几何性能。QNP3系列压电平台具有大的，清晰的孔径，闭环行程可达200 μm x 200 μm x 20 μm（开环行程为240 μm x 240 μm x 25 μm）。该设计非常适合光学和扫描探针显微镜或其他检查或制造应用，这些应用需要通过三个DoF操作来进行两侧零件的访问。
移至240μmx 240μmx 25μm
大方形透明光圈，可达66 mm x 66 mm
通过平行运动设计实现出色的多轴精度
高刚度和动态特性，可实现高工艺产量
高精度，无摩擦的挠性导向
正在申请专利的设计提供了无与伦比的几何性能
设备寿命长
具有直接计量电容传感器的出色定位分辨率和线性度
开环和真空版本
Model |
QNP3-100XYAZ-030-10 |
QNP3-100XYAZ-100-10 |
QNP3-150XYAZ-200-20 |
|
Closed-Loop Travel (X x Y x Z) |
30 μm x 30 μm x 10 μm |
100 μm x 100 μm x 10 μm |
200 um x 200 um x 20 um |
|
Open-Loop Travel, -30 to +150 V(1) |
36 μm x 36 μm x 12 μm |
120 μm x 120 μm x 12 μm |
240 um x 240 um x 25 um |
|
Resolution(2) |
Closed-Loop |
0.1 nm (XY); 0.15 nm (Z) |
0.30 nm (XY); 0.15 nm (Z) |
0.4 nm (XY), 0.15 nm (Z) |
Open-Loop |
0.03 nm (XY); 0.05 nm (Z) |
0.15 nm (XY); 0.05 nm (Z) |
0.2 nm (XY), 0.1 nm (Z) |
|
Linearity(3,4) |
0.02% (XY); 0.04% (Z) |
0.01% (XY); 0.02% (Z) |
0.01% (XY); 0.02% (Z) |
|
Bidirectional Repeatability(5) |
4 nm (XY); 3 nm (Z) |
2 nm (XY); 1 nm (Z) |
2 nm (XY); 2 nm (Z) |
|
Straightness |
25 nm (XY); 50 nm (Z) |
<10 nm (XY); <20 nm (Z) |
10 nm (XY); 40 nm (Z) |
|
2D Flatness (Over Full XY Travel) |
10 nm |
<5 nm |
<10 nm |
|
Pitch |
10 μrad (2.1 arc sec) (XY) 6 μrad (1.2 arc sec) (Z) |
2 μrad (0.4 arc sec) (XY); 6 μrad (1.2 arc sec) (Z) |
2 urad (0.4 arcsec) (XY); 6 urad (1.2 arcsec) (Z) |
|
Yaw |
5 μrad (1 arc sec) (XY) 5 μrad (1 arc sec) (Z) |
10 μrad (2.1 arc sec) (XY); 5 μrad (1 arc sec) (Z) |
20 urad (4 arcsec) (XY); 6 urad (1.2 arcsec) (Z) |
|
Stiffness (in direction of motion)(6) |
10 N/μm (XY); 25 N/μm (Z) |
1.9 N/μm (XY); 13 N/μm (Z) |
1.3 N/μm (XY); 8.7 N/um (Z) |
|
Unloaded Resonant Frequency(6) |
1850 Hz (XY); 2200 Hz (Z) |
490 Hz (XY); 1425 Hz (Z) |
330 Hz (XY); 910 Hz (Z) |
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Resonant Frequency (200 gram load)(6) |
950 Hz (XY); 1390 Hz (Z) |
350 Hz (XY); 910 Hz (Z) |
260 Hz (XY); 670 Hz (Z) |
|
Max Payload(7) |
1 kg |
1 kg |
3 kg |
|
Max Acceleration (Unloaded)(8) |
400 m/s2 (XY); 2000 m/s2 (Z) |
115 m/s2 (XY); 2000 m/s2 (Z) |
35 m/s2 (XY); 1000 m/s2 |
|
Moving Mass (Unloaded) |
0.24 kg (XY); 0.05 kg (Z) |
0.21 kg (XY); 0.05 kg (Z) |
0.58 kg (XY); 0.10 kg |
|
Stage Mass |
0.53 kg |
0.56 kg |
1.3 kg |
|
Material |
Anodized aluminum(9) |
Anodized aluminum(9) |
Anodized aluminum(9) |
|
MTBF (Mean Time Between Failure) |
30,000 Hours |
30,000 Hours |
30,000 Hours |
|
精密并联运动设计
QNP2压电位移台采用平行运动的弯曲和计量设计，可确保水平的多轴精度。借助经过FEA优化的精密挠曲，以确保高刚度和长使用寿命，QNP2位移台具有一流的刚度和共振频率，从而实现了高工艺通量和快速的闭环响应。
使用正在申请专利的驱动器设计，可将偏航误差最小化，同时仍保持符合Abbe标准的计量系统。这种设计可在整个XY行程空间内实现无与伦比的定位性能。
亚纳米性能
所有QNP2压电级均可提供闭环反馈（-C）或开环（无反馈）。独特的电容传感器并行测量设计可测量定位支架的输出，直接实现亚纳米分辨率，低于0.01％的线性误差和一位数纳米可重复性。
超精密控制
与Aerotech的Q系列控制器和驱动器配合使用时，QNP2位移台具有亚纳米级的定位分辨率，在位稳定性（抖动）和高定位带宽。诸如Aerotech的Dynamic Controls Toolbox和Motion Designer软件包之类的软件选件提供了许多先进而易于使用的工具，例如Learning Control，Harmonic Cancellation和Command Shaping，从而改善了跟踪误差并缩短了分步和稳定时间。还提供OEM驱动器选件。Aerotech的控制器架构可轻松实现压电平台，伺服系统，步进器和振镜之间的高速，严格控制的协调运动。
设计方案
可选的安装板可直接安装到英制或公制面包板光学平台上。固态桌面选项也是可用的。QNP2压电平台可根据要求提供定制材料和真空制备版本。
更多产品信息联系：于先生 18510085666 （同微信）
