营口市荣兴达科技实业股份有限公司
二氧化硅光学镀膜材料
分子式：SIO2
分子量：60.06
密度2.32g/cm3，熔点1723±5℃，沸点2230℃。化学性质很稳定。不溶于水也不跟水反应。是酸性氧化物，不跟一般酸反应。氟化氢(氢氟酸)是唯一可使二氧化硅溶解的酸，生成易溶于水的氟硅酸产品用途：二氧化硅产品作为光学器件的增透膜广泛用于半导体晶体、激光元件、窗口和整流罩等，并用于制造石英玻璃、光学仪器、光纤。
二氧化硅光学镀膜材料的技术指标及规格
品名 |
分子式 |
规格 |
透过区域（nm） |
折射率/波长（nm） |
蒸发温度（℃） |
蒸发源 |
备注 |
二氧化硅光学镀膜材料 |
SiO2 |
1-2 |
0.2-2 |
1.46/0.50 |
1800-2200 |
E |
无色透明晶体 |
1-3 |
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3-4 |
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3-5 |
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0.5-1 |
