深圳金谷气体有限公司
| PDMAT | |
| 五(二甲氨基)钽(V) (C10H30N5Ta) |
| 化学式 | C10H30N5Ta |
| 中文名称 | 五（二甲氨基）钽(V) |
| 英文名称 | PDMAT |
| CAS No. | 19824-59-0 |
| 分子量 | 401.3266 |
| 充装系数 | |
| 应用 | 氮化钽 (TaN) 薄膜的挥发性固体 CVD 前体。当在沉积过程中存在 O2、H2O、NO 或 H2O2 时，还会形成氧化钽 (Ta2O5) 薄膜。 Ta2O5 薄膜作为集成电路制造中的栅电介质材料具有广阔的应用前景。 |
| 产品规格 | ≥99.99% |
Pentakis‐dimethylamino Tantalum (PDMAT) is a solid source material for chemical vapor deposion or atomic layer deposion of highly conformal tantalum oxide or tantalum nitride films.
