瑞士idonus是一家专注于微型工程行业专业设备设计和制造的微技术公司。核心竞争力有：MEMS设备（MicroElectroMechanical Systems）、离子注入 机器视觉和光学解决方案、光伏设备、工程服务和原型或小批量生产

瑞士IDONUS氢氟酸气相刻蚀机

vpe由反应室和盖子组成。加热元件集成在盖子中。它控制待蚀刻基板的温度。硅片夹持可以通过两种方式实现：硅片可以使用夹持环进行机械夹持。旋入是从仪器的背面进行的，仪器永远不会与HF蒸汽接触。这3颗坚果戴着防护手套很容易拿。另一种选择是静电夹紧。单个芯片（超过10毫米）以及晶片可以夹在加热元件上。晶片背面有防腐蚀保护。

液体hf被注入反应室。反应室用盖子盖上。hf蒸气在室温下产生，刻蚀过程自然开始。蚀刻速率由晶圆温度控制，晶圆温度可从35°C调整到60°C。
经过处理后，酸可以储存在储液罐中，以便在可密封的容器中重复使用。液体转移是简单地通过降低与一个手柄沟通的水库。由于重力作用，酸液流入储液罐，可通过两个阀门关闭。通过打开阀门和提升手柄来重新填充反应室。酸流入反应室。酸可以重复用于多次蚀刻，直到必须更换为止。

vpe系统占地面积小，可以很容易地集成到现有的流盒中。

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