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QNW 支架 光学支架 精密温控样品池支架 TLC42双样品池支架 帕尔贴控温样品池

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精密温控样品池支架:-10.00~+105.00oC (±0.02oC)(可扩展定制-55.00oC到+150.00oC版本)

QUANTUM NORTHWEST(QNW)公司生产光谱分析用的温控样品池支架,可以在很宽的温度范围内实现快速准确的温度控制,几乎可以为任一光谱分析应用提供单个或多个温控样品支架,新一代温控样品池支架,可以用于紫外/可见光、荧光、圆形二向色、光色散、瞬态吸收、光纤、近红外、拉曼、中子散射和声光光谱学。也可提供定制选项。

 

特点

帕尔贴控制可得到快速精确地控制温度变化
快速改变温度,在需要的温度范围内降低温度变化速率
可在非常高或低的温度范围内工作
可使用脚本自动控制温度变化
通过磁性搅拌可使得样品温度均匀
每种型号都可以定制以适合不同的光谱仪要求
使用热敏电阻探测器记录内部样品温度
TLC 42 双样品池支架,双光束光谱仪, 由一对 TLC 40 组合而成用于双光束光谱仪分析用。

样品和参考可以维持在相同或不同的温度以进行比较
每个样品池都带可调速度的磁性搅拌
极低温度使用可选配隔热罩
温度范围:-40 ~ +105 oC(标准)| -50 ~ +150 oC(扩展)
温度精度:±0.02 oC

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