LK Tech LK technologies NGI3000 离子源 离子发生器 离子枪

客服热线： 400-840-1510

https://www.bihec.com/lk-technologies/

LK-Technologies强大，广受欢迎的离子源是为离子溅射清洁表面应用设计，光束能量高达3 keV，离子电流高达30μA。离子源采用了一种新颖的气体喷射系统，该系统允许在典型的1×10 -6torr的真空腔压力下进行溅射。

• 专利技术：气体喷射系统，不再基于昂贵的差分泵设备

• 低真空腔压力下的惰性气体溅射

• 宽离子束确保均匀溅射

• 兼容普通溅射清洁和ISS应用

• 连续可调谐的电压，从200 V到3 kV

• 带USB或以太网接口的数字控制电子设备

lktech LK technologies NGI3000 离子发生器 离子枪 离子源