产品介绍

功能特点：
在真空压力下，加在电感线圈的射频电场，使反应室气体发生辉光放电，在辉光发电区域产生大量的电子。这些电子在电场的作用下获得充足的能量，其本身温度很高，它与气体分子相碰撞，使气体分子活化。它们吸附在衬底上，并发生化学反应生成介质膜，副产物从衬底上解吸，随主气流由真空泵抽走，称为等离子体增强化学气相沉(PECVD)
产品用途：
PECVD开启式管式炉系统由开启式管式炉、高真空分子泵系统、射频电源系统及多通道高精度数字质量流量控制系统组成，是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择。
适用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备，生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用
产品参数

• 控温方式：采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制30段升降温程序。

• 加热元件：0Cr27Al7Mo2

• 工作电源：AC220V 50Hz/60Hz

• 额定功率：4kw

• 炉管材质：高纯石英管

• 炉管尺寸：Φ60/Φ80*1200mm

• 工作温度：≤1150℃

• 最高温度：1200℃

• 恒温精度：±1℃

• 恒温区：200mm

• 升温速度：≤10℃/min

• 密封方式：不锈钢快速法兰挤压密封

• 极限真空：6.0×10-5Pa

• 工作真空：7.6×10-4Pa

• 产品配置：双级旋片真空泵+分子泵

• 测量方式：复合真空计

• 真空规管：电阻规+电离规

• 冷却方式：风冷

• 抽速：110L/S

• 射频电源系统

• 射频功率输出范围：5~500W

• 射频频率：13.56MHz±0.005%

• 噪声：≤55DB

• 冷却方式：风冷

• 功率温定度：± 0.1%

• 混气系统流量规格：0－200sccm （可根据客户需要配置）

• 线性：±1.5%F.S

• 准确度：±1.5%F.S

• 重复精度：±0.2%F.S.

• 响应时间：≤8sec

• 耐压：3MPa

• 气路通道：4通道（根据客户需求）

• 针阀：316不锈钢

• 管道：Φ6mm不锈钢管

• 接口：SwagelokΦ6mm